干法清洗的比較

等離子清洗

UV清洗

外觀、大小及操作、維護(hù)等

有泵，帶真空系統(tǒng)及排氣管，大型立式設(shè)備；操作、維護(hù)等較復(fù)雜

常壓下工作，無泵，無真空系統(tǒng)及排氣管，小型臺式或便攜式；操作、維護(hù)等簡易

工作原理

利用紫外線及臭氧氧化有機(jī)物以達(dá)到表面干法清洗

利用紫外線及臭氧氧化有機(jī)物以達(dá)到表面干法清洗

工作方式

真空室中氧化并兼以等離子電離、電場轟擊

基板加熱兼以高濃度臭氧和紫外線照射；可選擇處理功能(UV模式,O3模式,UV/O3模式)

達(dá)成效果

高效快速，但因電子、離子的轟擊會帶來表面損傷

可避免表面損傷

應(yīng)用方面

。BGA,CSP等塑料封裝以及引線架的表面清洗

。光學(xué)元件,模具等的精密清洗

。有機(jī)薄膜等的表面改良

。去除光刻膠

。有機(jī)污染層的去除以及粘著性的改善

。光刻膠脫模

。去除光刻膠

。 殘留有機(jī)物的去除

。油墨去除

。掩模的清洗

適用對象

光刻膠去除

光刻膠殘留物去除

均價

較高

較低（$3萬）