DHPS-1 直流濺射等離子實驗儀裝置包括可拆卸的濺射腔體、濺射靶臺、真空抽氣系統(tǒng)、測量系統(tǒng)、進(jìn)氣系統(tǒng)等部分組成.本實驗采用同軸二極濺射結(jié)構(gòu),在真空室內(nèi)以沉積材料為陰極,加工樣品為陽極,工作期間兩極間加直流電壓引起放電,放電氣體中的離子被加速轟擊靶面,濺射粒子沉積在基片表面成膜. 可以完成光學(xué)薄膜材料的制備及其光學(xué)特性的測量、金屬薄膜的制備等實驗.通過這些實驗可讓實驗者理解直流濺射原理,掌握直流濺射薄膜材料的工藝方法.主要技術(shù)特點◆濺射靶臺和濺射靶距離可調(diào)節(jié),研究在不同距離時對薄膜濺射的影響;◆濺射基片可進(jìn)行加熱,加熱溫度可控,研究基片溫度對薄膜濺射的影響;◆濺射氣壓、濺射氣源流量可調(diào)節(jié),研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響;◆反應(yīng)腔體采用石英玻璃管,可直觀地觀察到濺射現(xiàn)象;◆工作氣體可調(diào)節(jié)更換,并可多路氣體混合工作.主要技術(shù)參數(shù)及性能 1、濺射腔體外形尺寸: 140mm 150mm; 2、濺射靶臺: 70mm 20mm; 3、濺射靶臺和濺射靶可調(diào)距離:10～50mm; 4、基片加熱溫度可控范圍:室溫～80℃; 5、濺射氣壓可調(diào)范圍:10Pa～200Pa; 6、濺射電壓:0V～1000V連續(xù)可調(diào); 7、濺射電流:0～200mA可測; 8、氣源流量可控范圍:6～60ml/min;25～250ml/min; 9、供電電源:AC220V,50Hz; 10、整機(jī)功率:1.5KW.