產(chǎn)品品牌：華南瑞士

產(chǎn)品型號：FOLEX重氮片

簡介

新型的重氮片Photomask Xtra Tough?(IMD-XT)是一種高耐久性的、半光澤面的、對紫外光敏感的正性工作感光重氮片。它可以從優(yōu)質(zhì)的銀鹽母片中拷貝出相同尺寸的重氮曝光底片。Photomask Xtra Tough?(IMD-XT)重氮片乳劑層具有更加卓越的抗刮傷和防腐蝕性能（主要來自綠油及其清潔劑）。很多制程中無須貼保護(hù)膜。

IMD-XT的感光膜是由重氮鹽、染色偶合劑、酸性穩(wěn)定劑涂抹在0.18-mm (7-mil)的聚酯基料上構(gòu)成的。通過紫外光線曝光，重氮鹽被分解。未曝光部分在接著的熱氨氣顯影過程中把酸性穩(wěn)定劑中和，并且觸發(fā)了和染料偶合劑的化學(xué)作用，從而產(chǎn)生紫外線密度很高的彩色圖像。

特性

·比以往的重氮片具有更好的抗刮傷性能。

·比以往的重氮片具有更強(qiáng)的抗化學(xué)腐蝕性能

·卓越的透明度

·高的紫外線密度

·可以在明亮黃色熒光燈下操作

·更優(yōu)秀的線邊銳利度

應(yīng)用

Photomask Xtra Tough?(IMD-XT)重氮片具有高透光率和卓越的抗刮傷抗溶劑性,特別適用生產(chǎn)高質(zhì)量的PCB（印制線路板）中的干膜(包括防焊)、濕膜影像轉(zhuǎn)移的工序.

曝光

Photomask Xtra Tough?(IMD-XT)重氮片對近紫外線部分光譜敏感，在380-410毫微米（nm）處為吸收峰值。推薦使用在410nm處有最大輸出能量的金屬鹵化物光源以及其他添加類的光源?？梢杂糜趥鹘y(tǒng)顯影機(jī)。特定的工作條件下應(yīng)選用正確的曝光時(shí)間。

曝光參數(shù)

添加金屬鹵化物 20-40 sec

高密度汞氣燈 40-80 sec

高密度弧光燈 60-120 sec

高密度氙氣燈 80-160 sec

安全光

本片可在明亮的黃色熒光燈或其他黃色光源（100英尺燭光）下工作。它也可以在大約20英尺燭光的柔和光線下短時(shí)間工作，這種光線一般來自于曬圖臺的間接照射。實(shí)際工作條件下的安全時(shí)間應(yīng)由實(shí)驗(yàn)決定。

沖片

Photomask Xtra Tough?(IMD-XT)重氮片可以在大多數(shù)顯影機(jī)中顯影。推薦使用溫度為65-75℃(150-170℉)，比重為26°波美度的氨溶液。由于不可能顯影過度，所以建議至少要經(jīng)過兩次顯影以保證完全顯影。無需再洗滌和干燥。

顯影條件的影響

膨脹系數(shù)是用來預(yù)測由于環(huán)境變化引起的膠片尺寸變化的，它不能用于預(yù)測沖片過程中的尺寸變化。預(yù)先經(jīng)過適應(yīng)環(huán)境處理的膠片所產(chǎn)生的變化極為微小，難以測量。不過，如果膠片未經(jīng)過預(yù)處理或沖片溫度超過80℃(175℉)時(shí)，變化量可能超過75mm/25cm (3mil/10英寸)。

產(chǎn)品規(guī)格:

1.20"*24"*100

2.24"*30"*50